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- 2023-03-02 发布于北京
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本实用新型公开了一种比浊测量装置,包括:前光输出功率小于或等于0.2毫瓦的前光组件,所述前光组件包括:光源、用于限制所述光源发出的光束的小孔光阑、用于对所述光源发出的光束准直整形的准直透镜及用于控制光斑大小的光斑限制光阑,所述准直透镜位于所述小孔光阑背向所述光源的一侧,所述光斑限制光阑位于所述准直透镜背向所述小孔光阑的一侧;反应池,所述反应池的一面朝向所述光斑限制光阑背向所述准直透镜的一面;压紧块,所述压紧块具有透射隧道及散射收集隧道;对所述散射收集隧道内的散射光进行收集的散射收集部件;对所述透
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213121625 U
(45)授权公告日 2021.05.04
(21)申请号 202021264328.1 G01N 33/53 (2006.01)
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