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- 2023-03-02 发布于北京
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本实用新型涉及一种晶元用预清洗机构，包括设置在缓冲腔内的：承载台，用于承载晶元；承载台上设有若干个竖向设置的高度可调的滚轮；滚轮的顶部设有限位销，多个限位销之间构成了用于定位晶元的限位区域；可转动的正面刷子，可横向移动的设置所述承载台的一侧，用于对晶元的正面面进行横向刷洗；可转动的反面刷子，可横向移动的设置所述承载台的一侧，用于对晶元的反面进行横向刷洗；喷嘴组件，用于将清洗液喷到晶元的正反面上，本实用新型通过对滚轮的高度进行调整，增加了晶元下表面与承载台之间的距离，从而便于反面刷子配合药液对晶元
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213103379 U
(45)授权公告日 2021.05.04
(21)申请号 202021208850.8 H01L 21/67 (2006.01)
(22)申请日 2
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