用于晶圆电镀设备的屏蔽装置及晶圆电镀设备.pdfVIP

  • 6
  • 0
  • 约9.3千字
  • 约 13页
  • 2023-03-02 发布于四川
  • 举报

用于晶圆电镀设备的屏蔽装置及晶圆电镀设备.pdf

本实用新型提供一种屏蔽装置及晶圆电镀设备。该屏蔽装置包括:第一驱动装置;和可转动的外屏蔽件,所述外屏蔽件设置有中空部,用于容纳电镀液并屏蔽电镀液中的电流线;其中,所述第一驱动装置与所述外屏蔽件传动连接。本实用新型提供的用于晶圆电镀设备的屏蔽装置及晶圆电镀设备中,第一驱动装置可驱动外屏蔽件旋转,外屏蔽件可屏蔽电镀液中的边缘电流线,使电镀更加均匀,电镀效果更佳。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 213086143 U (45)授权公告日 2021.04.30 (21)申请号 202020927517.6 (22)申请日 2020.05.27 (73)专利权人 上海新阳半导体材料股份有限公

文档评论(0)

1亿VIP精品文档

相关文档