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- 2023-03-04 发布于北京
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本实用新型属于包装膜技术领域,具体涉及一种耐划伤高透光性包装膜,包括基材、紫外线防护层、高透光层、耐磨层和抗静电层,所述基材的上表面设置有紫外线防护层,所述紫外线防护层的上表面设置有高透光层,所述高透光层的上表面设置有耐磨层,所述耐磨层的上表面设置有凸点,所述基材的下表面设置有抗静电层。通过在基材的基础上先后设置紫外线防护层、高透光层和耐磨层,耐磨层作为包装膜的最外层,使得整体的耐磨防划伤性能得以提高,而且二氧化硅的耐磨层具有一定基础的透明性,而高透光层采用纳米陶瓷膜,其具有很低的光折射率,提高
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 218535942 U
(45)授权公告日 2023.02.28
(21)申请号 202222680155.7 B32B 3/08 (2006.01)
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