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- 2023-03-04 发布于四川
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本发明提供了一种磁控溅射蒸发双系统卷绕真空镀膜机，属于镀金属膜设备技术领域。它解决了现有不同的金属靶材其溅射出的靶材原子在各个靶材表面沉积的问题。本磁控溅射蒸发双系统卷绕真空镀膜机，包括真空室以及设置于真空室内的卷绕系统、溅射源和蒸发炉，卷绕系统包含有至少为两个的镀膜鼓，且相邻两镀膜鼓之间设置有起隔离作用的真空腔，真空腔内的真空度大于真空室的真空度，每个镀膜鼓对应一种溅射源，真空室内位于镀膜鼓的侧方设置有蒸发炉。本发明具有可以有效防止溅射靶材之间发生相互干扰的优点。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213172559 U
(45)授权公告日 2021.05.11
(21)申请号 202021929128.3
(22)申请日 2020.09.07
(73)专利权人 温
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