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- 2023-03-04 发布于四川
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本申请提供了一种用于生长大尺寸碳化硅单晶的坩埚,通过将坩埚体分为上坩埚体和下坩埚体两部分结构,并且,设置坩埚盖扣合在上坩埚体的顶部,上坩埚体的底部与下坩埚体的顶部连接;下坩埚体的电阻率小于上坩埚体的电阻率,上坩埚体的电阻率小于或等于坩埚盖的电阻率。在碳化硅单晶生长时,由于下坩埚体的石墨电阻率低于上坩埚体的石墨电阻率,相应的下坩埚体的坩埚壁交变电流要比上坩埚体大,加热效率高,使得与之接触的碳化硅多晶粉料温度高;上坩埚体以及坩埚盖的石墨电阻率高于下坩埚体的石墨电阻率,相应的其产生的交变电流相对小,使
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213172678 U
(45)授权公告日 2021.05.11
(21)申请号 202021742009.7
(22)申请日 2020.08.20
(73)专利权人 广州南砂晶圆半导体技术有限公
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