原创力文档- 3
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- 2023-03-05 发布于北京
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一种等离子体处理装置包括：反应腔，其包括反应腔侧壁，所述反应腔侧壁具有基片传输口，所述基片传输口的顶部到反应腔底部具有第一距离；可移动下电极组件，设于所述反应腔内底部，用于承载待处理基片；等离子体约束装置，环绕设于所述可移动下电极组件的外围，其底部到反应腔底部具有第二距离，所述第二距离大于第一距离；遮挡板，位于所述可移动下电极组件与反应腔侧壁之间，用于密封所述基片传输口；第一驱动装置，用于驱动所述遮挡板移动以密封所述基片传输口。所述等离子体处理装置能够降低颗粒污染，并能保证传片路径的畅通，且能提
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213212104 U
(45)授权公告日 2021.05.14
(21)申请号 202022790572.8
(22)申请日 2020.11.27
(73)专利权人 中微半导体设备（上海）股份有限
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