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- 2023-03-05 发布于北京
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本实用新型公开了一种用于蜡层的检测处理设备，包括施蜡装置和机台，施蜡装置设置在机台上，通过施蜡装置将蜡滴落在抛光盘的表面，通过设置在机台上的驱动机构驱动抛光盘旋转，使得抛光盘的表面形成蜡层。检测处理设备还包括：图像采集系统和图像分析系统，图像采集系统用于采集蜡层的表面图像信息，图像采集系统与图像分析系统之间电连接，以将蜡层的表面图像信息传输至图像分析系统，图像分析系统用于对蜡层的表面图像信息进行分析处理，并判断蜡层表面的平整度是否达标。根据本实用新型实施例的用于蜡层的检测处理设备，可以准确地检测
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213208942 U
(45)授权公告日 2021.05.14
(21)申请号 202021993328.5
(22)申请日 2020.09.11
(73)专利权人 徐州鑫晶半导体科技有限公司
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