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- 2023-03-08 发布于四川
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本实用新型公开了一种半导体设备研磨头装载体清洗装置,具体涉及半导体设备清洗技术领域,包括固定架,所述固定架的底部设置有废液箱,且固定架的外侧安装有水箱,所述固定架的顶端连接有固定壳,所述固定壳的前端安装有门板,所述门板的内部设置有观察窗,所述固定壳的内部安装有清洗机构;所述清洗机构包括安装在固定壳顶部的伺服电机,所述伺服电机的底端连接有转动轴,所述转动轴的底端固定连接有转动座。本实用新型在使用时,实现可持续的对多个研磨头装载体进行分批清洗,提高了清洗效率,节省了人力,且方便对清洗箱的内部实现智能
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213316568 U
(45)授权公告日 2021.06.01
(21)申请号 202022185339.7
(22)申请日 2020.09.29
(73)专利权人 江苏凯威特斯半导体科技有限公
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