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- 2023-03-10 发布于四川
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本实用新型公开一种磁控溅射靶材快换结构。包括靶枪、靶材、卡环、波形簧片、屏蔽罩和异形簧片，靶枪的背板外壳内设置靶材，靶材端面应均匀压紧贴在靶枪内端面，以便靶材冷却，靶材内端面为水冷盘；屏蔽罩套在靶枪的背板外壳的端口内，屏蔽罩靠近靶枪的端部和靶材之间设有卡环和波形簧片，屏蔽罩端部经波形簧片和卡环压接到靶材上；在屏蔽罩和靶枪的背板外壳的端口之外周围设有异形簧片，异形簧片固定于靶枪上，异形簧片向屏蔽罩延伸并越过屏蔽罩后设置有凸耳，凸耳径向朝向屏蔽罩中心延伸，屏蔽罩远离靶枪的端部顶接到凸耳上。本实用新型
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 218580042 U
(45)授权公告日 2023.03.07
(21)申请号 202222752612.9
(22)申请日 2022.10.19
(73)专利权人 浙江大学
地址 310058 浙
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