可热转印的器件层结构和色带结构.pdfVIP

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  • 2023-03-10 发布于北京
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本实用新型涉及可热转印的器件层结构和色带结构,器件层结构,包括背电极层、接着层一、空穴传输层、接着层二和发光层,色带结构,包括可热转印的器件层结构,PET薄膜和背涂层,本实用新型提出的可热转印的器件层结构和色带结构,器件层结构中包括背电极层、接着层、空穴传输层和发光层等结构,同时形成了一种新的色带结构,这种结构解决了目前存在的异质介面问题。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 213413310 U (45)授权公告日 2021.06.11 (21)申请号 202021584394.7 (22)申请日 2020.08.03 (73)专利权人 湖南鼎一致远科技发展有限公司

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