原创力文档- 1、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。。
- 2、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
- 3、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
- 4、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
- 5、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
- 6、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
- 7、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次， 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
本实用新型公开了一种半导体原料的腐蚀清洗装置，包括清洗槽、溶剂储槽、腐蚀液储槽、干燥气储罐、去离子水储槽和收集槽；清洗槽的顶部设有排气口；溶剂储槽的底部通过第一管路与清洗槽侧壁顶部连通；腐蚀液储槽侧壁底部通过第二管路与清洗槽侧壁底部连通，第二管路上设有四氟管道泵；腐蚀液储槽的顶部通过第三管路与清洗槽侧壁的顶部连通；清洗槽的底部设有第四管路；干燥气储罐通过第五管路与第四管路连通；第四管路分支为第六管路和第七管路，第六管路与去离子水储槽连通；第七管路通向收集槽；清洗槽侧壁的顶部通过第八管路通向收集槽
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213495346 U
(45)授权公告日 2021.06.22
(21)申请号 202022129504.7
(22)申请日 2020.09.25
(73)专利权人 中锗科技有限公司
地
知识产权出版社有限责任公司（原名专利文献出版社）成立于1980年8月，由国家知识产权局主管、主办。长期以来， 知识产权出版社非常重视专利数据资源的建设工作， 经过多年来的积累，已经收藏了数以亿计的中外专利数据资源。
版权声明书
用户编号：8063122115000010
文档评论（0）