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本实用新型公开了一种半导体晶舟沉积物清理装置,包括壳体和晶舟,所述晶舟固定安装在壳体的内部,所述壳体的上端固定连接有清理装置,所述晶舟的底端固定连接有底箱,且底箱)的底端固定连接在壳体的内部底端。该半导体晶舟沉积物清理装置,通过设置清理装置等结构,在对晶舟上的晶圆进行沉积物清理的时候,只需要通过点击带动清理装置底端的转轴将清理杆转动至竖直位置,同时转轴表面的连接杆在滑槽内带动清理杆移动至晶舟的中间位置,同时通过连接进气管和出气管至清理装置内部并与清理杆和伸缩杆表面的喷嘴处进行连接,即可利用喷嘴对
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213495359 U
(45)授权公告日 2021.06.22
(21)申请号 202021022129.X
(22)申请日 2020.06.06
(73)专利权人 广州市睿高电子科技有限公司
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