一种基片台.pdfVIP

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本实用新型提供了一种基片台,所述基片台包含一个轴对称的圆柱形真空腔体,在所述真空腔体内的中央处,放置一个带金属丝的金属底座。在进行真空腔内壁的表面清洁过程中,微波馈入真空腔后,金属丝靠近真空腔壁端的针刺状结构由于微波电场容易在金属尖端处产生“尖端放电”效应,将真空腔体内的气体激发产生等离子体,等离子体靠近真空腔壁从而对真空腔内壁进行等离子体清洁作用,产生的副产物被真空系统给抽走,金属丝随着基片台的旋转运动和上下运动,使得金属丝尖端放电端能将真空腔内壁进行有效清洁。该方法操作简单,清洁效果明显。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 213507186 U (45)授权公告日 2021.06.22 (21)申请号 202020446071.5 (22)申请日 2020.03.31 (73)专利权人 上海征世科技有限公司

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