一种膜层沉积腔室及磁控溅射设备.pdfVIP

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2023-03-13 发布于四川
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一种膜层沉积腔室及磁控溅射设备.pdf

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本实用新型提供一种膜层沉积腔室及磁控溅射设备，属于物理气相沉积设备技术领域，其中膜层沉积腔室，包括：壳体，壳体上设置有观察窗，观察窗提供用于观察壳体内的载板的窗口；遮挡板，可移动的设置在壳体的内部，遮挡板相对于观察窗具有遮挡位置和打开位置，遮挡板在遮挡位置用于遮挡观察窗对壳体内的观察；遮挡板在打开位置移开对观察窗的遮挡，以便于通过观察窗对壳体内进行观察。本实用新型的膜层沉积腔室，通过遮挡板使腔室在用于进行磁控溅射时，靶材材料、灰尘及其他杂质不容易落在观察窗上，当需要通过观察窗对腔室内部进行观察时

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 213507174 U (45)授权公告日 2021.06.22 (21)申请号 202022652563.2 (22)申请日 2020.11.16 (73)专利权人宣城睿晖宣晟企业管理中心合伙