原创力文档- 3
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- 2023-03-14 发布于四川
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本实用新型提供了一种加热腔结构和硅片处理设备。其中，加热腔结构包括：加热腔体，用于提供真空环境，加热腔体的侧壁上设有通孔；隔离套管，由通孔伸入加热腔体内，隔离套管的至少一端位于加热腔体外；加热器，加热器的发热部分设于隔离套管内，加热器的引线端由隔离套管位于加热腔体外的一端伸出；连接组件，用于固定隔离套管和加热器；其中，隔离套管与连接组件使加热腔体的内部与加热器以及外部大气隔离。本实用新型的技术方案，通过隔离套管与连接组件的配合实现了内部真空环境与外部大气环境的隔离，使得加热器的引线可在大气环境中
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213570726 U
(45)授权公告日 2021.06.29
(21)申请号 202022452443.8 (ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
(22)申请日 2020
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