原创力文档- 5
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- 2023-03-14 发布于四川
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本实用新型公开一种砚台，包括砚台本体和砚盖，砚台本体包括砚座和砚檐，砚座上部开设有凹陷的墨池，砚檐位于砚座上方，砚座和砚檐一体化成型；砚檐呈弧形结构，砚檐中部开设有通孔，通孔与墨池连通；砚檐上设置有环形凸起，环形凸起与通孔同轴设置，砚盖底部边缘开设有环形凹槽，环形凸起与环形凹槽相适配，砚盖与砚檐限位配合。本实用新型提供的砚台，在书写的过程中，为提高砚台的稳定性，将砚台设计成低矮型砚台；针对书写练习者在书写时，很少有研墨的习惯，在砚台上设计墨池，方便书写；同时为砚台配备多功能盖子，可以盖住墨池起到
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213565201 U
(45)授权公告日 2021.06.29
(21)申请号 202022462223.3
(22)申请日 2020.10.30
(73)专利权人 珠海艺术职业学院
地
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