一种等离子增强化学气相沉积设备薄膜均匀度调节装置.pdfVIP

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2023-03-16 发布于四川
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一种等离子增强化学气相沉积设备薄膜均匀度调节装置.pdf

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本申请涉及一种等离子增强化学气相沉积设备薄膜均匀度调节装置，涉及晶圆薄膜均匀度调节装置领域,包括调节托盘、固定螺母槽、固定螺杆、调节螺母、第一防松螺母、反应外壳、反应腔、加热器和晶圆，调节托盘内部开设有容纳槽，容纳槽内壁压紧有调节螺母，调节托盘的一面开设有开口，容纳槽与固定螺母槽、开口连通且方向与调节螺母运动方向一致，固定螺杆远离开口的端面的位置设有调节刻度标识，调节刻度标识与调节托盘的端面对应。本申请具有对所沉积的薄膜精准控制的效果。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 213624377 U (45)授权公告日 2021.07.06 (21)申请号 202022734344.9 (22)申请日 2020.11.23 (73)专利权人盛吉盛（宁波）半导体科技有限公