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半导体级单晶硅炉行业发展概况 半导体级晶体生长设备行业发展 根据终端应用领域不同，晶体生长设备主要分为两类，即光伏领域和半导体领域的晶体生长设备，其中，光伏领域晶体生长设备的下游应用行业为光伏硅片，主要用于制造电池片，被广泛应用于光伏电站、屋顶分布式光伏发电等；半导体领域晶体生长设备的下游应用行业为硅片/碳化硅材料市场，主要用于制造芯片，应用于通信、消费电子、汽车、工业等领域。 半导体级硅片对晶体纯度要求极高，为11N（99．999999999%），缺陷率控制要求为μm/nm级，金属含量控制要求为痕量级（含量在百万分之一以下的组分），氧含量控制要求为ppma级（百万分比原子浓度），对于设备热场