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本实用新型提供了一种单晶硅切片清洗装置,包括清洗箱、设置在清洗箱内的多组滚动清洗装置和设置在清洗箱底部的多个超声波发生器,所述滚动清洗装置包括固定架和设置在固定架下放的滚柱,所述滚柱与电机的输出轴相连接,所述电机设置在清洗箱外壁上,所述固定架上设置有多个用于固定单晶硅切片的固定槽,通过在清洗箱内设置多组滚动清洗装置,滚动清洗装置的固定架上设置多个固定槽从而实现对大批量的单晶硅切片进行同时清洗,通过在固定架下放设置滚柱,电机带动滚柱转动,滚柱的外表面与放置在固定槽内的单晶硅切片的底部相接触从而带动
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213670835 U
(45)授权公告日 2021.07.13
(21)申请号 202021930426.4
(22)申请日 2020.09.07
(73)专利权人 成都青洋电子材料有限公司
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