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- 2023-03-19 发布于四川
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本实用新型涉及半导体技术领域，提供了一种调焦调平装置及光刻设备，所述调焦调平装置包括：基座、调节组件和锁紧件；所述调节组件可沿第一方向移动的设置于所述基座上，所述调节组件包括一支撑平面，所述支撑平面可转动调节方位以适形与所述主基板贴合；所述锁紧件包括一锁紧曲面，所述锁紧曲面用于与所述主基板点接触，并沿所述第一方向将所述主基板压于所述支撑平面上。如此配置，在锁紧时主基板不会存在装配应力，提升调焦调平的稳定性，在满足集成电路工艺中对调焦调平越来越高的调整精度要求的同时，也改善了调整过程中存在装配应力
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 218647306 U
(45)授权公告日 2023.03.17
(21)申请号 202223163011.0
(22)申请日 2022.11.28
(73)专利权人 上海微电子装备（集团）股份有限
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