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直写光刻照明系统和直写光刻设备.pdfVIP

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  • 2023-03-20 发布于四川
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直写光刻照明系统和直写光刻设备.pdf

    本实用新型公开了一种直写光刻照明系统和直写光刻设备，所述直写光刻照明系统包括：光源；光束整形系统，所述光束整形系统设于所述光源的光路上，用于将所述光源发出的光整形为矩形光斑；分光棱镜，所述分光棱镜位于所述光束整形系统的焦面位置，用于将所述矩形光斑在光斑宽度方向上分成多个子光斑；与多个所述子光斑对应的多个数字微镜阵列；二次照明转接系统，所述二次照明转接系统位于所述子光斑的出射光路上，用于将每个所述子光斑分别成像至对应的所述数字微镜阵列上。采用该直写光刻照明系统可以解决矩形光斑宽度大于数字微镜阵列横

    (19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 218647304 U (45)授权公告日 2023.03.17 (21)申请号 202222963145.4 (22)申请日 2022.11.07 (73)专利权人 合肥芯碁微电子装备股份有限公

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