显影蚀刻喷淋装置.pdfVIP

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  • 2023-03-23 发布于北京
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本实用新型公开了一种显影蚀刻喷淋装置,包括:喷淋支架、摇摆组件以及喷盘结构,所述喷盘结构设置在所述喷淋支架上,所述摇摆组件设置在所述喷淋支架上并位于所述喷盘结构一侧,所述喷盘结构与所述摇摆组件相连接并在所述摇摆组件的带动下摇摆或者静止对垂直安装的第三方待加工PCB板进行喷射二流体精细喷雾。使现有的PCB表面处理不存在积液阻碍新药水的交换,消除水池效应,不影响药水反应的均匀性,实现精细线路的显影蚀刻。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 213876317 U (45)授权公告日 2021.08.03 (21)申请号 202022529479.1 (22)申请日 2020.11.04 (66)本国优先权数

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