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原子级平整反铁磁金属单晶薄膜 原子级平整反铁磁金属单晶薄膜是研究反铁磁材料体系的关键，其电子学性质必须符合极精确的规律，以保证其具备高性能用于智能传感应用等。目前，制备原子级平整反铁磁金属单晶薄膜的方法仍存在技术上的挑战，主要集中在面部的晶体结构及薄膜 TOD的控制。 近期，国际上采取了多种高技术手段来改善反铁磁金属单晶薄膜的性能，其中最为有效的就是制备原子级平整反铁磁金属单晶薄膜的方法。特别是采用激光刻蚀制备原子级平整反铁磁金属单晶薄膜的技术，可以快速有效地生成低氧化物原子级平整反铁磁金属单晶薄膜。它能够在反铁磁表面上形成一个精细的结构，并能够准确控制位错密度，以保证反铁磁材料具备良好的应用性能。 此外，采用激光刻蚀制备原子级平整反铁磁金属单晶薄膜的技术还可以通过控制薄膜厚度从而有效地控制电子性质的变化，从而使得反铁磁材料具有更好的性能。 因此，制备原子级平整反铁磁金属单晶薄膜的技术具有重要的价值，以期能够改善反铁磁金属单晶薄膜的性能，并将被用于智能传感应用等领域。