光刻设备位置控制.docx

光刻设备位置掌握 使现代芯片制造成为可能 步进式光刻机和扫描式光刻机是用于制造集成电路的极其简单的机器。这些设备使用光学系统将一个石英碟盘〔这叫做掩模件〕上的图案投放到一个基片〔这叫做晶片〕的光敏层上形成成像。晶圆，直径为200 或者 300mm，通常用硅来制造。由于一个晶片能够包含很多的集成电路，通常是 100 个或更多，晶片需要在连续的曝光中被重定位。曝光发生在晶片和掩模件的扫描移动过程中。 芯片制造业不断努力将更多的功能封装到每个 IC 中。这一进步对存储芯片的容量 和微处理器的运行速度产生了重大影响。摩尔定律指出，每片芯片的计算力量每隔一年半到 两年就会翻倍，它已经稳定了 40 年[1