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- 2023-03-26 发布于北京
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本实用新型涉及机械技术领域。半导体刻蚀装置衬底的冲洗治具，包括一支撑架；支撑架包括底板、至少两个从左至右排布的加强板以及倾斜设置且用于支撑衬底的支撑板，支撑板上开设有沥水孔；底板上开设有安装孔；底板与支撑板的底部相连；加强板与底板以及支撑板焊接相连；支撑架还包括限位挡板，限位挡板固定在支撑板的底部的前方。本专利通过优化衬底冲洗治具的结构，便于对衬底的冲洗，通过底板的安装孔，便于实现整个装置的定位固定。减少冲洗导致的滑动移位的概率。通过支撑板便于实现冲洗水分的排除，大大缓解了水花飞溅的情况。通过限
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213887518 U
(45)授权公告日 2021.08.06
(21)申请号 202022592358.1
(22)申请日 2020.11.11
(73)专利权人 上海富乐德智能科技发展有限公
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