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本实用新型公开了一种真空研磨乳化装置,包括半槽形顶座和放置架,半槽形顶座的底部固定连接有液压柱,液压柱的底部固定安装有控制面板,控制面板的底部固定安装有控制电箱,控制电箱的底部固定安装有工作台,工作台的底部固定安装有万向轮,万向轮顶部的一侧固定安装有纵向挡板,万向轮的顶部固定安装有抽气装置,抽气装置的顶部固定套接有真空工作箱。上述方案中,乳化装置的内部设置有真空工作箱,一般的乳化装置在对物料进行粉碎和撞击时,很少能在真空环境下进行,在非真空的环境下,物料由于与氧气有所接触,在进行乳化过程中,物料
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213966343 U
(45)授权公告日 2021.08.17
(21)申请号 202022447469.3
(22)申请日 2020.10.29
(73)专利权人 无
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