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- 2023-03-29 发布于四川
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本实用新型涉及一种晶圆检查与清洁设备，包括内部气压大于外界气压的设备壳体、安装在设备壳体内部用于放置晶圆盒的工作台、设置在工作台下方的顶升错位组件及顶升旋转组件、设置在工作台上方用于与顶升错位组件配合实现检查工作的识别相机、设置在工作台上方用于与顶升旋转组件配合完成清洁工作的清洁器；所述工作台放置晶圆盒的正下方设置有空腔，所述顶升错位组件及顶升旋转组件下方设置有驱动其分别对应运动至空腔下方的横行模组，并实现上升贯穿空腔与晶圆下端相抵；本实用新型用于实现晶圆的检查与清洁，减少晶圆因搬运破损或排序不
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 214022079 U
(45)授权公告日 2021.08.24
(21)申请号 202022636435.9 H01L 21/66 (2006.01)
(22)申请日 2
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