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用于水热温差法晶体生长的双层旋转内挡板.pdfVIP

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  • 2023-03-29 发布于四川
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用于水热温差法晶体生长的双层旋转内挡板.pdf

    本实用新型公开了一种用于水热温差法晶体生长的双层旋转内挡板，被置于水热高压釜的内腔中，包括大小相等、且轴心线相重合的上挡板和下挡板；上挡板(1)与下挡板(3)之间的间距为可调间距；在上挡板(1)上分别设有上挡板下降通孔(6‑1)、上挡板上升通孔(6‑2)；在下挡板(3)上分别设有下挡板下降通孔(6‑3)和下挡板上升通孔(6‑4)；相对应的上挡板下降通孔(6‑1)和下挡板下降通孔(6‑3)的正投影与上挡板(1)轴心线的夹角为大于0°～小于90°。本实用新型通过对双层挡板的间距调整和上下板通孔的旋转

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 214004854 U (45)授权公告日 2021.08.20 (21)申请号 202023003212.5 (22)申请日 2020.12.14 (73)专利权人 山东博达光电有限公司

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