原创力文档- 1
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- 2023-03-29 发布于四川
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本实用新型涉及石英晶片生产技术领域，用于加工石英晶片，其具体地公开了一种腐蚀清洗用装置，此装置包括两个彼此相对设置的固定板以及位于固定板之间的晶片支撑单元，所述晶片支撑单元有多个且其从上至下依次排列；位于最上方的支撑单元的上方设置有压紧轴，所述压紧轴的两端分别各与一个固定板连接，所述限位轴位于条形通槽A的一侧并与条形通槽A的槽口相对，限位轴的两端分别各与一个固定板可拆卸连接；本装置通过晶片支撑单元共同形成隔断空间，将每个晶片单独分开，并对其余部分进行了镂空设计，使得液体流动无阻碍，晶片与液体充分
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 214012905 U
(45)授权公告日 2021.08.20
(21)申请号 202022911415.8
(22)申请日 2020.12.07
(73)专利权人 成都泰美克晶体技术有限公司
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