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- 2023-03-29 发布于四川
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本实用新型公开了一种用于晶体垂直区熔的纵向振动机构及生长炉,纵向振动机构包括承载平台、仓壁振动器和减振连接装置,所述承载平台用于固定一根或多根装有待区熔材料的料管,所述承载平台设有一个或多个料管定位孔,所述料管定位孔用于调节料管的竖直位置;所述仓壁振动器固定在所述承载平台上,并用于驱动所述承载平台在其垂直方向上纵向振动;所述减振连接装置支撑在所述承载平台的底部,并用于减弱所述承载平台与外部框架之间的振动传递。本实用新型提供的用于晶体垂直区熔的纵向振动机构及生长炉缓和了生长过程中晶体粘壁现象和减弱
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 214004857 U
(45)授权公告日 2021.08.20
(21)申请号 202022911824.8
(22)申请日 2020.12.08
(73)专利权人 江阴市赛贝克半导体科技有限公
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