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- 2023-03-29 发布于四川
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本实用新型公开了一种半导体刻蚀设备硅环类零部件清洗治具,包括清洗固定底板和多个清洗固定中板,在清洗固定底板上面设有依次叠加设置的清洗固定中板,每个清洗固定中板底面四周分布有限位卡块;所述清洗固定底板、清洗固定中板为中空的方形框架,所述方形框架上面四周分布有限位挡板,在限位挡板内侧凹设限位卡块槽;在方形框架的每个框板上面均安装有定位销和定位板。本申请治具可以根据部件数量及清洗槽尺寸进行叠加,能够有效的避免部件划伤,具有较好的耐磨性,并且使用方便,定位精度高,可重复利用,节省人力,提高了工作效率。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213997142 U
(45)授权公告日 2021.08.20
(21)申请号 202022870071.0
(22)申请日 2020.12.03
(73)专利权人 富乐德科技发展(大连)有限公司
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