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本实用新型公开一种基站，所述基站包括清洁件清洗装置和供液系统，所述供液系统用于提供所述清洁件清洗装置清洗所述清洁件所需的清洗液；所述供液系统包括清水供应系统和清洁剂供应系统，所述清水供应系统和清洁剂供应系统协同提供所述清洗液。本实用新型基站无需用户直接添加和调配清洁剂，给用户使用基站带来了便利。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 214017435 U
(45)授权公告日 2021.08.24
(21)申请号 202022525060.9
(22)申请日 2020.11.04
(73)专利权人 云鲸智能科技（东莞）有限公司
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