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- 2023-03-29 发布于四川
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本实用新型涉及一种大尺寸硅片的清洗槽，包括槽体（1），所述的槽体（1）的左右两端分别设置清洗药液进口（2）、碱液进口（3），所述的槽体（1）的两侧设置有清洗装置，所述的槽体（1）的底面上设置有升降结构，所述的升降结构包括电机（7）、升降杆（8）、硅片托块（9），所述的升降杆（8）的底端与电机（7）连接，所述的升降杆（8）的上端与硅片托块（9）连接，所述的电机通过支杆（701）与槽体的侧壁连接，从而将电机固定在槽体内，所述的槽体（1）的底面上安装有两个超声波发生器（10）。本实用新型中的清洗槽能够
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213996979 U
(45)授权公告日 2021.08.20
(21)申请号 202022789264.3
(22)申请日 2020.11.26
(73)专利权人 镇
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