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等离子体处理装置.pdfVIP

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  • 2023-03-29 发布于四川
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等离子体处理装置.pdf

    本实用新型公开了一种等离子体处理装置，包括：反应腔；基台，其设置在所述反应腔中，所述基台中具有第一气体通道；多个第一气体供应源，所述多个第一气体供应源与第一气体通道连接，多个第一气体供应源中的任一个第一气体供应源与所述第一气体通道之间具有阀门；第二气体供应装置，其设置在所述反应腔中且与所述基台相对设置。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 214012894 U (45)授权公告日 2021.08.20 (21)申请号 202023135609.X (22)申请日 2020.12.23 (73)专利权人 中微半导体设备（上海）股份有限

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