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岩石抛光方法的合理选择及抛光机理初探 岩石抛光是一种美化岩石的技术，可以把岩石表面光滑而无锯齿、发亮耐观，可以达到装饰性加工的效果，它利用抛光剂在岩石表面形成弱的氧化膜，将整个晶体的界面都被抛光，改善矿物的外观，使矿物表面更光滑，抛光剂有助于把岩石表面的粗糙度降低。 岩石抛光技术中，最重要的是选择合理的抛光方法，才能达到更好的抛光效果。常用的抛光方法有喷洒式抛光、搅拌式抛光和摩擦抛光等，其中摩擦抛光是最常用的，因其压力很低，能保护抛光表面，而且易于控制，大多时候不需要任何化学抛光剂，抛光比较平坦，而且抛光速度比其他方法也快，结果也比较满意。 岩石抛光的抛光机理包括物理微动、化学反应、湿表面作用等等。其中，物理微动是抛光过程中的核心原理，它是利用抛光器的侧向和拉动及它们之间的碰撞作用，使抛光头及旋转的抛光轮及磨料粒子在物体表面上不断摩擦，使抛光物体表面不断被削减而抛光。化学反应是指当抛光媒接触表面时，它可能发生一定化学反应，产生一种保护性层，可以抗抛光块一定时间内的磨损，从而减轻表面的腐蚀，保持表面的耐蚀性和光泽。湿表面作用是指在表面细粒与外界发生作用时，表面会发生湿表面化现象，从而形成表面特殊结构，使原来块状的表面变得更加光滑，把岩石表面抛光。 岩石抛光是一项复杂的工艺，本文结合常用抛光方法，简要介绍了岩石抛光方法的合理选择及抛光机理，但在进行抛光时具体的抛光工艺及抛光剂配比等还需要更深入的研究。