一种反应设备的气体分布器.pdfVIP

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  • 2023-04-07 发布于北京
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本实用新型涉及一种反应设备的气体分布器,包括:气体分布器,气体分布器的上表面设有向上延伸的凸缘,凸缘设有限位凹槽,气体分布器为圆盘形;反应设备,反应设备的内部设有内腔,内腔具有底面和侧面,气体分布器位于反应设备内部。本实用新型的有益效果是:使气体分布器稳固地安装在反应设备的内部,延长气体分布器的使用寿命。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 215428911 U (45)授权公告日 2022.01.07 (21)申请号 202121594260.8 (22)申请日 2021.07.13 (73)专利权人 天津天元伟业化工技术有限公司

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