原创力文档- 2
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- 2023-04-09 发布于四川
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本实用新型提供一种气体喷淋头以及等离子体处理装置。所述气体喷淋头包括气体分布板，所述气体分布板包括进气面、出气面以及延伸通过所述进气面及出气面的气体通道，所述气体分布板还包括：多个凹槽，其设置在所述出气面上，并且与所述多个气体通道间隔设置，所述多个凹槽用于使带电粒子在其中进行多次电离，从而增加等离子体浓度。本实用新型能增加等离子体密度，加快等离子体沉积速度。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 215481251 U
(45)授权公告日 2022.01.11
(21)申请号 202121208510.X
(22)申请日 2021.06.01
(73)专利权人 理想万里晖真空装备（泰兴）有限
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