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本实用新型涉及硅片加工技术领域,且公开了一种基于硅片加工用清洗装置,包括装置本体,所述装置本体的顶部固定连接有连接架,所述连接架的内顶壁固定连接有气缸,所述气缸的输出端固定连接有电机。该基于硅片加工用清洗装置,通过设置旋转臂、转座、连框、放置架、喷口、水泵和导流管,将硅片放入放置架中,并通过气缸将旋转臂的底部完全浸没在装置本体的水中,启动水泵,水流开始循环,且循环的水流通过喷口对连框进行冲击,使得连框带动放置架转动,在水流的冲击下,硅片不断地翻面,使得两面都能受到水流的冲击,且在离心力的加持下,
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 215613504 U
(45)授权公告日 2022.01.25
(21)申请号 202120048247.6
(22)申请日 2021.01.08
(73)专利权人 开化晶芯电子有限公司
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