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一种半导体制作工艺用气体处理机构.pdfVIP

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  • 2023-04-14 发布于四川
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一种半导体制作工艺用气体处理机构.pdf

    本实用新型涉及气体处理技术领域，尤其涉及一种半导体制作工艺用气体处理机构，解决了现有技术中现有的气体处理机构只能单单对一种特定特性的气体进行处理的问题。一种半导体制作工艺用气体处理机构，包括传输气管，所述传输气管一端连通有连接座，所述连接座设置有多个，两个所述连接座相邻一侧连通有过滤管道，所述过滤管道底部固定连接有旋转杆，所述旋转杆底端固定连接有稀释管，所述稀释管底部固定连接有微型气泵，所述稀释管两端分别与两个连接座相邻一侧连通。本实用新型通过设置了传输气管、连接座、过滤管道、旋转杆、释管、微型

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 215654282 U (45)授权公告日 2022.01.28 (21)申请号 202122109129.4 (22)申请日 2021.09.02 (73)专利权人 中瑞机电工程（天津）有限公司

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