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本申请涉及离子束加工的技术领域,尤其是涉及一种大口径光学元件的离子束加工装置,包括真空加工舱以及设置于所述真空加工舱内用于对光学元件进行离子束加工的离子源,所述离子源的发射端设置有用于吸附溅射材料的挡板,所述挡板上开设有供离子束通过的通孔,所述挡板表面粗糙度达到纳米量级,所述光学元件设置于所述真空加工舱内的预定位置,所述离子源位于所述光学元件上方且发射端朝向所述光学元件本申请具简化了离子束加工设备且有利于保证产品质量。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 215680604 U
(45)授权公告日 2022.01.28
(21)申请号 202121810366.7
(22)申请日 2021.08.04
(73)专利权人 摩高光学科技(佛山)有限公司
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