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一种镀层均匀的磁体自动镀层装置.pdfVIP

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  • 2023-04-15 发布于四川
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一种镀层均匀的磁体自动镀层装置.pdf

    本实用新型公开了一种镀层均匀的磁体自动镀层装置，包括盒体，盒体的顶端设置有盒盖，盒体的侧壁及盒盖的内均设置有若干开孔，开孔内设置有隔断网；盒体的内壁设置有若干连接组件，连接组件靠近盒体中心位置的一端设置有磁体分离组件，连接组件的顶端且位于盒体的底端设置有环形压块。本实用新型结构新颖，可以对磁体均匀的进行镀层，降低生产成本及资源的浪费。

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 215668198 U (45)授权公告日 2022.01.28 (21)申请号 202122294118.8 (22)申请日 2021.09.22 (73)专利权人 包头亚鑫美磁科技有限公司

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