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- 2023-04-16 发布于四川
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本实用新型涉及半导体制造技术领域,公开了一种废弃光刻胶排放装置及涂胶显影机。该废弃光刻胶排放装置包括:积液盒,所述积液盒内设置有用于装设废弃光刻胶的腔室,所述积液盒上设置有进液口和排液口,所述进液口与所述腔室连通,用于收集所述废弃光刻胶,所述排液口与所述腔室连通,用于排出所述废弃光刻胶;排液管道,所述排液管道与所述排液口连通,用于排放所述废弃光刻胶;若干个支管,设置在所述排液管道的侧壁上,若干个所述支管分别与所述排液管道连通,用于输送光刻胶溶解剂。本实用新型中,通过设置支管喷洒溶解剂对排液管道中
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 215729282 U
(45)授权公告日 2022.02.01
(21)申请号 202122151968.2
(22)申请日 2021.09.07
(73)专利权人 上海众鸿电子科技有限公司
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