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本实用新型提供了一种刻蚀机的清洗机构和刻蚀机,用于硅片清洗,清洗机构包括至少两个滚轮组、喷淋管和喷淋罩;滚轮组包括相对平行成对设置的上滚轮和下滚轮,上滚轮和下滚轮之间形成硅片传输通道;喷淋管用于向硅片表面喷射清洗液;靠近清洗机构的出料端设置的滚轮组为压水滚轮组,用于将硅片表面残留液体挤压干净;沿着硅片传输通道,在压水滚轮组两侧形成进料区域和出料区域;喷淋罩设置于硅片传输通道上方并罩住压水滚轮组,喷淋罩设置有导流结构,用于将喷溅的清洗液引导至压水滚轮组的进料区域。本实用新型实施例提供的清洗机构,可
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 215785199 U
(45)授权公告日 2022.02.11
(21)申请号 202120372057.X
(22)申请日 2021.02.10
(73)专利权人 宁夏隆基乐叶科技有限公司
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