一种基于微波等离子体化学气相沉积的单晶金刚石基片台.pdfVIP

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2023-04-19 发布于北京
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一种基于微波等离子体化学气相沉积的单晶金刚石基片台.pdf

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本实用新型涉及晶体合成领域，具体涉及一种基于微波等离子体化学气相沉积的单晶金刚石基片台，包括钼托，所述钼托上由外向内凹陷设置有阶梯分布的同心圆台阶，台阶的阶梯处设置有圆滑的台阶倒圆角，台阶的平台上设置有多个用于放置籽晶的晶孔。通过降低中心基片台的高度，使金刚石籽晶温度分布更均匀；通过相邻两个台阶之间的高度差和台阶边缘处的倒圆角设置，使中心部分的基片处于等离子体球较低的位置，边缘部分基片处于等离子体球较高的位置，来达到多片单晶金刚石生长温度的一致性；有效的改善了因等离子球能量不均匀而导致的温度差问

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 215856452 U (45)授权公告日 2022.02.18 (21)申请号 202121395932.2 C23C 16/511 (2006.01)