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本实用新型公开了一种真空镀膜机的靶材保护结构,包括:防护罩、转盘、支架和电动旋转平台,所述转盘底部中央通过卡接有电动旋转平台,所述防护罩一端两侧内壁通过卡接滑动连接有密封板,所述支架顶部一侧位于密封板上方通过卡接固定连接有气缸,本实用新型通过将靶材放置在转盘上阵列排布的安装槽内部,在进行镀膜前,启动气缸带动密封板以及密封条上升,使得密封条与转盘分离,启动电动旋转平台带动转盘转动固定角度后,使得需要的靶材转动至防护罩外侧溅射镀膜工位,随后控制电动旋转平台停止,控制气缸活塞杆下降,使得密封板与密封条
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 215887212 U
(45)授权公告日 2022.02.22
(21)申请号 202121949923.3
(22)申请日 2021.08.19
(73)专利权人 深圳市鼎力真空科技有限公司
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