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一种在真空或多种气氛环境下的激光抛光系统及抛光方法.pdfVIP

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  • 2023-04-21 发布于四川
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一种在真空或多种气氛环境下的激光抛光系统及抛光方法.pdf

    本发明提供了一种在真空或多种气氛环境下的激光抛光系统及抛光方法，涉及激光加工技术领域，其中在真空或多种气氛环境下的激光抛光系统，其特征在于，包括：密封舱，密封舱内适于放置抛光试样，密封舱上设置有充气阀；真空泵，真空泵与密封舱相连接以抽取密封舱内的气体；激光器，激光器与密封舱相连接，激光器包括激光发射器、激光工作头和光纤传导结构，激光工作头设置于密封舱内部，光纤传导结构通过光纤过真空通管穿过密封舱的通孔与设置于密封舱的外部的激光发射器相连通。本发明在实现真空环境或多种气氛环境下激光抛光的同时，成本

    (19)国家知识产权局 (12)发明专利 (10)授权公告号 CN 113894424 B (45)授权公告日 2022.08.23 (21)申请号 202111285700.6 (51)Int.Cl.

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