基片处理系统及其方法.pdfVIP

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2023-04-21 发布于四川
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基片处理系统及其方法.pdf

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本发明提供一种基片处理系统及其方法，该基片处理系统包括：设有框架开口的框架；以及被配置成耦合到所述框架并且覆盖所述框架开口的至少一部分的薄膜，所述薄膜包括薄膜开口，其中所述薄膜开口的薄膜开口面积等于或小于所述框架开口的框架开口面积；其中所述薄膜被配置用于与所述基片耦合，其中当所述基片与所述薄膜耦合时，所述基片覆盖所述薄膜开口，且所述薄膜被配置为将所述基片维持在相对于所述框架的设定位置；且所述薄膜开口面积小于所述基片的总面积，基于该基片处理系统的处理方法能够避免翻转基片，以提高太阳能电池组件的成品

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113903831 A (43)申请公布日 2022.01.07 (21)申请号 202111149234.9 (22)申请日 2021.09.29 (71)申请人德鸿半导体设备（浙江）有限公司