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一种多晶硅生产企业的硅粉过滤芯清洗再生工艺.pdfVIP

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  • 2023-04-21 发布于四川
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一种多晶硅生产企业的硅粉过滤芯清洗再生工艺.pdf

    本发明涉及一种多晶硅生产企业的硅粉过滤芯清洗再生工艺，一是垢型转型清洗，浸泡温度为45‑50℃、浸泡时间为0.5‑1小时，垢型转型清洗液的组成为：3‑5％的氧化剂、8‑10％的助剂，其余为水组成；二是除垢清洗，浸泡温度为60‑65℃、浸泡时间为1‑1.5小时，除垢清洗液组成为：2‑5％的除垢剂、1‑2％的渗透剂，其余为水组成；三是在超声波清洗槽中清洗，常温、声波频率为33KHz、清洗时间为2‑2.5小时；超声波清洗液组成：1～3％的松动剂，其余为水组成。清洗再生工艺用于多晶硅生产企业的硅粉过滤芯

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113893618 A (43)申请公布日 2022.01.07 (21)申请号 202111172191.6 C11D 7/12 (2006.01)

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