一种外场成像系统校准装置及方法.pdfVIP

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2023-04-22 发布于四川
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一种外场成像系统校准装置及方法.pdf

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本发明涉及一种外场成像系统校准装置及方法，该方法包括：设置外场成像系统校准装置，令结构板正对成像仪器，下沿保持水平；调整结构板与成像仪器的位置关系，令成像仪器的图像中心对准十字成像靶标的十字中心，并记录结构板与成像仪器的间距；令激光测距机发射至少两次激光，以在激光显像纸上获得实际激光光斑；基于实际激光光斑及激光中心点，确定实际激光光斑中心位置与理论激光光斑中心位置之间的偏差；根据确定的偏差及结构板与成像仪器的间距，计算成像仪器光轴与激光测距机光轴的偏差角度。本发明适用于高峰值功率、低发散角的激光

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 113945908 A (43)申请公布日 2022.01.18 (21)申请号 202111221873.1 (22)申请日 2021.10.20 (71)申请人北京环境特性研究所